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Product Center當(dāng)前位置:首頁產(chǎn)品中心材料樣品處理等離子清洗機KT-S2DQX等離子清洗 射頻清洗機 光刻膠清洗
等離子清洗 射頻清洗機 光刻膠清洗鄭州科探屬于13.56MHz的射頻電源。作為一種精密干法清洗設(shè)備,主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗,塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學(xué)實驗等。
品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子 |
一、產(chǎn)品應(yīng)用原理:
(1)等離子清洗 射頻清洗機 光刻膠清洗屬于13.56MHz的射頻電源。作為一種精密干法清洗設(shè)備,主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗,塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學(xué)實驗等。
(2)該清洗機內(nèi)置不高純石英倉體,容積為2升,結(jié)構(gòu)為上的通用結(jié)構(gòu)。采用了新型的外觀結(jié)構(gòu)設(shè)計和固態(tài)電源技術(shù),使其有效容積增大,不同真空氣體環(huán)境下容易匹配,且控制頻率穩(wěn)定。真空倉門有觀察窗,可直觀物體的處理過程,其射頻電源與控制都組裝在一個機箱內(nèi),即減少了空間的占用,更便于操作和放置,同時與大型清洗機相比較,從檢測功能與控制功能的設(shè)置上均可一個面板上操作,特別適用科學(xué)實驗樣品清洗和教學(xué)。
(3)KT-S2DQX型等離子清洗機電源屬于150W13.56MHz的射頻電源。作為一種精密干法清洗設(shè)備,主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗,塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學(xué)實驗等。
二、作用過程:
(1)該低溫表面等離子清洗 射頻清洗機 光刻膠清洗內(nèi)置高純石英倉體,容積為2升。采用了新型的外觀結(jié)構(gòu)設(shè)計和固態(tài)電源技術(shù),使其有效容積增大,不同真空氣體環(huán)境下容易匹配,且控制頻率穩(wěn)定。
(2)真空倉門有觀察窗,可直觀物體的處理過程,其射頻電源與控制都組裝在一個機箱內(nèi),即減少了空間的占用,更便于操作和放置,同時與大型清洗機相比較,從檢測功能與控制功能的設(shè)置上均可一個面板上操作,特別適用科學(xué)實驗樣品清洗和教學(xué)。
供電電源 | AC220V(AC110V可選) |
工作電流 | 整機工作電流不大于3.5A(不含真空泵) |
射頻電源功率 | 150W |
射頻頻率 | 13.56MHz |
頻率偏移量 | <0.2MHz |
特性阻抗 | 50歐姆,手動匹配 |
耦合方式 | 感應(yīng)耦合式(線圈耦合) |
真空度 | ≤100Pa |
腔體材質(zhì) | 高純石英 |
腔體容積 | 2L(內(nèi)徑110MMX深度220MM) |
觀察窗內(nèi)徑 | Φ70 |
氣體流量 | 10—600ml/min(其他量程可選) |
過程控制 | 過程手動控制 |
清洗時間 | 手動開關(guān) |
開蓋方式 | 鉸鏈側(cè)開式法蘭 |
外形尺寸 | 400x380x360mm |
重量 | 23Kg |
真空室溫度 | 小于65°C |
冷卻方式 | 強制風(fēng)冷 |
標(biāo)配 | KF16波紋管1米,kf16卡箍2個,電源線一根,說明書一本。 |