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產(chǎn)品中心

Product Center

當(dāng)前位置:首頁產(chǎn)品中心材料樣品處理小型濺射儀KT-Z1650PVD直流磁控濺射儀

直流磁控濺射儀

產(chǎn)品簡介

直流磁控濺射儀,產(chǎn)品為臺式磁控濺射鍍膜機,能夠在非導(dǎo)電或?qū)щ姴涣嫉臉悠飞贤坎冀穑ˋu),鈀(Pd),鉑(Pt)和金/鈀(Au / Pd)的薄膜。

產(chǎn)品型號:KT-Z1650PVD
更新時間:2024-03-27
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
訪問量:1303
詳細介紹在線留言
品牌鄭科探濺射氣體氬氣
樣品臺尺寸50mm樣品倉尺寸160mm
靶材尺寸50mm靶材材質(zhì)根據(jù)需求
價格區(qū)間面議產(chǎn)地類別國產(chǎn)
應(yīng)用領(lǐng)域綜合

直流磁控濺射儀,本儀器主要適用于掃描電子顯微鏡樣品鍍膜導(dǎo)電膜(金膜),儀器操作簡單方便,配合中小型掃描電子顯微鏡制樣的儀器離子濺射儀的工作原理是在一個較低真空的腔體內(nèi),將超過幾百伏特的電壓加載在負電極和正電極之間,使得輝光放電產(chǎn)生,使得正離子在電場的作用下對靶電極(負極)的轟擊加速,造成靶中原子濺射,使得一層簿膜在樣品上形成。10電子伏特為濺射原子的平均能量,因此會有非常大的熱量產(chǎn)生,為了使樣品不被灼傷,需要對被鍍材料特性以及是否需要采取特殊的防護方法格外注意。

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直流磁控濺射儀技術(shù)參數(shù);

控制方式

7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1000W

輸出電壓電流

電壓≤1000V  電流≤1A

真空

機械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤30Pa

擋板類型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺

可旋轉(zhuǎn)φ62  (可安裝φ50基底)

樣品臺轉(zhuǎn)速

8轉(zhuǎn)/分鐘

樣品濺射源調(diào)節(jié)距離

40-105mm

真空測量

皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

預(yù)留真空接口

KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進氣口









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